纳米压印光刻胶/子膜胶

首骋提供纳米压印光刻胶和配套使用的子膜胶，用于12寸半导体晶圆生产，可复刻出线宽10nm、 深宽比5:1的纳米精细结构。纳米压 印光刻胶具有压印精度高、边缘线型保持好等特色；子模胶具有连续压印形变小及脱模力小等特点，广泛应用于高分辨率半导体制造、光学应用 。